Tantaal sputterend doelwit

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. is located in the High tech Development Zone of Baoji City, Shaanxi Province. The company mainly produces conventional processed profiles such as plates, strips, foils, rods, wires, and pipes made of tantalum, niobium, hafnium, tantalum tungsten alloy, niobium hafnium alloy c103, as well as deep processed products such as ships, crucibles, sputtering targets, coating targets, machined parts, high-temperature furnace insulation screens, heating elements, furnace bodies (heating furnaces, annealing furnaces), and corrosion-resistant equipment.

 

 

Gedetailleerde uitleg van tantalum sputtering doelmateriaal specificaties

01.

Diameter/diktespecificaties

Specificaties met diameter: gemeenschappelijke standaarddiameters zijn 50 mm, 50 . 8mm, 57 mm, 60 mm, 76,2 mm, 80 mm, 100 mm en 101,6 mm, met een aanpassingsbereik van 50-400 mm.
Diktespecificatie: de basistikte is meestal 0.1-50 mm (zoals 3 mm is een gemeenschappelijke waarde) en kan worden gebonden aan een koperen achterkantdoel (zoals 2 mm of 3 mm koperen laag) of uitgerust met magnetische pakkingen om te voldoen aan specifieke compatibiliteit van apparatuur .

02.

Zuiverheidskwaliteit/materiaalconditie/vorm en aanpassing

Zuiverheidsniveau: hoge zuiverheid groter dan of gelijk aan 99 . 95% of groter dan of gelijk aan 99,99%, geschikt voor toepassingen voor halfgeleiders.
Materiaalstatus: verstrekt gegloeide status (m) of harde status (y) om te voldoen aan verschillende verwerkingsvereisten .
Vorm en aanpassing: ondersteunt de aanpassing van platte doelen, roterende doelen en onregelmatige doelen . De dimensies, toleranties (zoals oppervlakteruwheid kleiner dan of gelijk aan 32RM's), en bindingsmethoden kunnen flexibel worden ontworpen volgens tekens of vereisten .
Zuiverheidskwaliteit/materiaalconditie/vorm en aanpassing

Kenmerken:
Hoog smeltpunt en uitstekende chemische stabiliteit: tantalum heeft een smeltpunt van 3017 graden en een kookpunt van 5458 graden . Het reageert niet met aqua -regia bij kamertemperatuur en heeft uitstekende corrosieweerstand .
Unieke elektrische eigenschappen: Tantalum vertoont uitstekende elektrische eigenschappen en is geschikt voor hoogwaardige sputteringsprocessen, zoals RF-sputtering met een vermogensdichtheid van maximaal 15W/cm ² .
High temperature stability and low gas adsorption: maintaining a strength of>400 mpa na 500 graden, met een oppervlakte -energie zo laag als 0 . 8j/m ², effectief onderdrukken van AR -gasadsorptie en het verbeteren van de snelheid van de filmafzetting.

Doel:
De productie van halfgeleiders: tantalum -doelen worden vaak gebruikt als barrièrematerialen voor koper -interconnecttechnologie in halfgeleider geïntegreerde circuits . De tantalum/tantalum stikstof (ta/tan) bilayer structuur kan de elektromigratietijdstijd effectief uitbreiden tot 10 ⁷ uren {2.}}}}}}}}}
Optische coating: Tantalum -doelen worden gebruikt om dunne films te produceren met specifieke optische eigenschappen door fysieke dampafzetting (PVD) of chemische dampafzetting (CVD) technieken, en worden veel gebruikt in optische apparaten, displays en sensoren .
Medische hulpmiddelen: Tantalum heeft een goede biocompatibiliteit en is geschikt voor medische implantaten zoals botplaten en gewrichtsprothesen, waardoor menselijke afstotingsreacties worden verminderd .
Anti -corrosiebekleding: vanwege de uitstekende corrosieweerstand van tantalum, wordt het gebruikt om chemische apparatuur en metalen oppervlakken te coaten die worden blootgesteld aan extreme omgevingen, waardoor de servicevenstaat van apparatuur wordt verlengd .
Andere toepassingen: Tantalum -doelmaterialen worden ook gebruikt bij de productie van magnetische opslagmedia, inkjetprinterkoppen en platte paneelweergaven .

Populaire tags: Tantalum sputterend doelwit, China tantalum sputterende doelfabrikanten, leveranciers, fabriek