Hafnium ingot

Hafnium ingot

Ingot is de grondstofvorm van hafnium, meestal in de vorm van een cilinder met een diameter tussen {{0}} mm. De zuiverheid kan 99,99%bereiken en het kan verschillende verhoudingen zirkonium bevatten (zoals 0. 2%, 0. 3%of 0,5%). Ingots worden voornamelijk gebruikt als grondstoffen voor de productie van hafniumproducten, zoals kathoden voor röntgenbuizen, elektroden voor kwijtingsbuizen met hoogspanning en absorbers voor gasvulsystemen.

Beschrijving

 

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. bevindt zich in de High Tech Development Zone van Baoji City, de provincie Shaanxi. Onze belangrijkste producten omvatten platen, staven, buizen, draden, deeltjes, folies en andere conventionele verwerkte profielen van tantalum, niobium, titanium, nikkel, zirkonium, hafnium, hafnium en hun legeringen, evenals diep verwerkte producten, startende producten, enz. After-Sales-service.
 

 
 
Korte introductie
product-1024-1024
01.

Aanvraagvelden en ontwikkelingsperspectieven



Toepassingsgebieden: verdeeld in vier hoofdvelden: halfgeleider- en sputterende doelmaterialen, hoge temperatuur/vacuümindustrie, condensatoranodes en anti-corrosie-engineering. Leg de applicatiewaarde uit.

 

Ontwikkelingsperspectieven: uitkijken naar trends voor technologische ontwikkeling vanuit vier richtingen: zuiverheidsverbetering, grootschalige grootte, procesinnovatie en duurzaamheid.

02.

Voorbereidingsproces en voorzorgsmaatregelen



Bereidingsproces: gedetailleerde introductie van drie reguliere productieprocessen (elektronenstraalsmeltenmethode, koolstofreductie -combinatie van elektronenbundel smelten, plasma -smeltmethode) en vergelijking van proceskarakteristieken via tabellen.

 



Aandacht: analyseer de belangrijkste punten in de productie uit drie aspecten: veiligheidsbescherming, kwaliteitscontrole en procescontrole en vermeld specifieke risico's en controlemaatregelen.

product-1024-1024

 

Tantalum Ingot is een metalen metalen ingot gevormd door smelt en zuivering van zeldzame metaal tantalum (TA), en is het kernbasismateriaal van de tantalum materiaalverwerkende industriële keten. Tantaalmetaal heeft een reeks uitstekende fysische en chemische eigenschappen: het smeltpunt is zo hoog als 3017 graden en staat op de zesde plaats van alle metalen; De dichtheid is 16,65 g/cm ³, dat behoort tot hoge specifieke zwaartekrachtmetalen; Tegelijkertijd over uitstekende ductiliteit en mechanische verwerkingsprestaties. Deze kenmerken maken tantaal ingots een onmisbaar sleutelmateriaal voor hoogwaardige productie.

In termen van microstructuur moeten hoogwaardige tantale ingots voldoen aan strikte zuiverheidsnormen. Volgens de industriële normen moet de zuiverheid van tantalum -ingots die worden gebruikt voor halfgeleider -doelmaterialen 99,999% (5n -niveau) of hoger bereiken, met bijzonder strikte controle over het gehalte van belangrijke onurige elementen: interstitiële onenigheid elementen koolstof (c) minder dan of gelijk aan 15ppm, waterstof (h) minder dan of gelijk aan 2ppm; Hoog smeltpunt metaalonzuiverheden zoals niobium (NB) minder dan of gelijk aan 2ppm, wolfraam (w) minder dan of gelijk aan 1ppm, molybdeen (mo) minder dan of gelijk aan 1 ppm; De radioactieve elementen uranium (U) en thorium (TH) zijn elk kleiner dan of gelijk aan 0,001 ppm. De totale hoeveelheid metaalonzuiverheden (exclusief gaselementen) mag niet groter zijn dan 10 ppm. Tegelijkertijd moeten tantalum -ingots een uniforme en dichte korrelstructuur hebben, met een Vickers -hardheid (HV/9.8N) van minder dan of gelijk aan 85, een dichtheid in het bereik van 16. 5-16. 6 g/cm ³ en een strikte controle van ultrasone foutdefect

Tantale ingots die industrieel worden geproduceerd, hebben meestal meestal een cilindrische of rechthoekige vorm, met een uniek metalen grijs oppervlak. Volgens verschillende eindgebruik varieert het diameterbereik van tantale ingots van 200 mm tot 450 mm en kan het gewicht meer dan 300 kg bereiken. Deze vorm van ontwerp is gunstig voor de daaropvolgende drukverwerking (zoals smeden en rollen), terwijl het minimaliseren van randdefecten die tijdens het gietproces worden gegenereerd.

Aan de applicatiezijde zijn de hoogwaardige toepassingen van tantale ingots nog steeds geconcentreerd in drie hoofdvelden: halfgeleidersputterdoelen, vacuümapparaten voor hoge temperatuur en hoogwaardige condensatoren en hebben potentieel aangetoond in opkomende velden zoals biomedische implantaten. De prestatie -eisen voor tantale ingots in verschillende toepassingsscenario's vertonen sterk gedifferentieerde kenmerken, waardoor de ontwikkeling van voorbereidingsprocessen naar aanpassing en functionalisatie stimuleert. Ondernemingen die kernvoorbereidingstechnologieën en lay -outcirculaire economie -modellen beheersen, zullen een strategisch voordeel behalen in de wereldwijde tantalum -industriële keten.

Populaire tags: Hafnium Ingot, China Hafnium Ingot -fabrikanten, leveranciers, fabriek

Misschien vind je dit ook leuk

Boodschappentassen